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利用斯涅尔定律,可以找到由不同折射率的平面平行表面组成的多层薄膜镀膜任何位置的光线角度。由于斯涅尔定律适用于每个界面,因此薄膜内光线的内角与薄膜顺序或薄膜在堆栈中的位置无关(2)n1sinθ1=n2sinθ2=n3sinθ3=n4sinθ4n1sin⁡θ1=n2sin⁡θ2=n3sin⁡θ3=n4sin⁡θ4出射光线将与入射光线平行,因为 n1 = n4。由于光学元件的曲率,曲面上的光学镀膜并不是真正的平面平行结构。不过,由于镀膜较薄,这种近似仍然有效。








不同镀膜技术的比较 (IAD:离子辅助沉积,IBS:离子束溅射,ALD:原子层沉积)蒸发沉积在蒸发沉积过程中,真空室中的源材料通过加热或电子束轰击进行蒸发。在蒸发过程中,蒸汽冷凝到光学表面并控制加热、真空压力、基片定位和旋转,使特定设计厚度的光学镀膜保持均匀。与本部分所述的其他技术相比,蒸发沉积可以容纳更大的镀膜机尺寸,而且通常更经济有效。

光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层 吸收介质:可以是法向均匀的,也可以是法向不均匀的,实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多,这是因为,制备时,薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料,膜层之间的相互渗透形成扩散界面,由于膜层的生长、结构、应力等原因,形成了薄膜的各向异性,膜层具有复杂的时间效应.形成了薄膜的各向异性,膜层具有复杂的时间效应.